研究者紹介ページ

電気電子工学系

西中　浩之

Nishinaka Hiroyuki

西中　浩之　教授

取得学位:

2006年3月修士（工学） (京都大学)
2009年3月博士（工学） (京都大学)

職歴:

2009年04月～シャープ株式会社主事
2015年01月～京都工芸繊維大学助教
2020年02月～京都工芸繊維大学准教授
2025年04月～京都工芸繊維大学教授

所属学会：応用物理学会、IEEE、材料学会

ミストを用いた半導体デバイス形成技術

加湿器や医療用ネブライザ、冷却用の濡れない霧など、幅広く利用されているミストを半導体の形成技術へ適用する研究を進めています。このミストは塩のように水や溶媒に溶解できれば、どのような材料でも半導体形成に利用できるといった特徴が有ります。この特徴を活かして、種々の酸化物半導体や有機材料の成膜に成功しています。
現在は、このミストを用いて分極を有する超ワイドバンドギャップ酸化物によるパワーデバイスや新しい半導体材料の研究を行っています。