革新的エントロピー駆動型樹脂表面自在偏析法の開拓：剛直な無機クラスター骨格であるかご型シルセスキオキサン（POSS）に柔軟な親水性有機鎖を各頂点に有するナノ構造が制御された単一有機無機ハイブリッド分子が単純なキャスト法で表面偏析による表面親水化が達成できるという新規技術を基盤にした従来にない概念による将来の社会実装に資する革新的エントロピー駆動型表面偏析法を開拓を進めている。
研究者紹介ページ
分子化学系
中 建介
Naka Kensuke
分子化学系
中 建介
Naka Kensuke
中 建介 教授
- 1990年04月～ 鹿児島大学 助手
- 1996年03月～ 京都大学 助手
- 2000年07月～ 京都大学 助教授
- 2007年11月～ 京都工芸繊維大学 教授
所属学会： 日本化学会、高分子学会、アメリカ化学会、日本接着学会、近畿化学協会
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該当するSDGs
元素ブロック開発による革新的高分子材料の創出
シリコーン樹脂は電子・光学用途材料として重要です。しかし、その分子レベル構造の精密制御は困難です。もし有機高分子のように分子レベル構造を自在合成できれば、従来材料を凌駕する物性機能が追求できると考えられます。私たちは分子構造が明確なかご型シルセスキオキサンを基盤とした様々な社会ニーズに対応できる材料開発を行っています。
また有用な炭素－ヒ素結合形成法の開発を基盤とし、ヒ素化合物ならではの特性を理解することで従来にはない有用機能を有する材料創出も進めています。
また有用な炭素－ヒ素結合形成法の開発を基盤とし、ヒ素化合物ならではの特性を理解することで従来にはない有用機能を有する材料創出も進めています。
その他の研究内容